光學元件、鏡片在冷加工過程中,經過下盤清洗后,尚存在的磨料(CeO2,稀土粉、高嶺土等),冷卻液(自來水、乳化劑等),輔料(蠟、瀝青、蟲膠等保護漆),有機溶劑(汽油、煤油)等的殘漬;
元件、鏡片在工序流程仲,操作者接觸可能引起的手印,唾液印,汗?jié)n印等;
元件、鏡片在儲存過程中,空氣中的塵埃雜質、二氧化碳、溫度、水汽等引起在玻璃表面的“腐蝕”;
元件、鏡片在所有相關加工過程中附帶的各種污物。上述污垢又往往不是單獨存在,而是互相滲透的,隨外界環(huán)境(溫度、濕度)影響,還會氧化分解或因微生物作用而腐蝕,形成更為復雜的化合物粘合在元件表面,甚至腐蝕元件表面,形成難以清除的色斑。
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